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首页 > 业务布局 > 结构化应用 > 超硬磨具 > 电子行业用系列产品  >  晶圆背减薄用干式抛光磨轮-GP0001
晶圆背减薄用干式抛光磨轮-GP0001

应用领域: 目前,晶圆加工可通过四种方式;化学机械抛光材料去除率较低,干法刻蚀和湿法刻蚀去除不均匀,损伤层难以控制,而磨抛砂轮加工无需抛光液,可快速去除金刚石磨削纹路,可有效改善超薄硅片的“翘曲”现象。此外DP砂轮可有效控制背损伤层,兼顾去疵性和高抗折强度。  

产品规格: 外径:458mm   内径:130mm   齿高:8 mm   磨轮高度: 27 mm   适用机型:DISCO 8761/8760  

产品特征:1.该抛光轮不使用水、化学研磨液,抛光成本低,效率高;2.可有效改善超薄硅片的“翘曲”现象,降低晶圆应力;3.有效控制背损伤层,兼顾去疵性和高抗折强度。

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